摘要：
证券之星消息，根据企查查数据显示金宏气体(688106)新获得一项发明专利授权，专利名为“一种去除超高纯正硅酸乙酯钢瓶中固体颗粒的装置及方法”，专利申请号为CN201910816141.3,授权日为2024年5月31日。专利摘要：本发明公开了一种去除超高纯正硅酸乙酯钢瓶中固体颗粒的装说完了。
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证券之星消息，根据企查查数据显示金宏气体(688106)新获得一项发明专利授权，专利名为“一种去除超高纯正硅酸乙酯钢瓶中固体颗粒的装置及方法”，专利申请号为CN201910816141.3,授权日为2024年5月31日。专利摘要：本发明公开了一种去除超高纯正硅酸乙酯钢瓶中固体颗粒的装说完了。
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证券之星消息，根据企查查数据显示和远气体(002971)新获得一项发明专利授权，专利名为“一种合成气提纯制备电子级高纯度二氧化碳生产工艺”，专利申请号为CN202110730071.7,授权日为2024年5月31日。专利摘要：本发明公开了一种合成气提纯制备电子级高纯度二氧化碳生产工艺等我继续说。
zheng quan zhi xing xiao xi ， gen ju qi zha zha shu ju xian shi he yuan qi ti ( 0 0 2 9 7 1 ) xin huo de yi xiang fa ming zhuan li shou quan ， zhuan li ming wei “ yi zhong he cheng qi ti chun zhi bei dian zi ji gao chun du er yang hua tan sheng chan gong yi ” ， zhuan li shen qing hao wei C N 2 0 2 1 1 0 7 3 0 0 7 1 . 7 , shou quan ri wei 2 0 2 4 nian 5 yue 3 1 ri 。 zhuan li zhai yao ： ben fa ming gong kai le yi zhong he cheng qi ti chun zhi bei dian zi ji gao chun du er yang hua tan sheng chan gong yi deng wo ji xu shuo 。
证券之星消息，根据企查查数据显示汉威科技(300007)新获得一项发明专利授权，专利名为“一种便携式气体检测设备管道清洗装置”，专利申请号为CN201811269171.9,授权日为2024年5月31日。专利摘要：本发明提供了一种便携式气体检测设备管道清洗装置，该装置包括待检测气体入口等我继续说。
证券之星消息，根据企查查数据显示汉威科技(300007)新获得一项发明专利授权，专利名为“一种新型在线扫描式超声波气体测漏系统”，专利申请号为CN201811638009.X,授权日为2024年5月31日。专利摘要：本发明提供一种新型在线扫描式超声波气体测漏系统，包括数据处理控制器、云等我继续说。
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金融界2024年5月30日消息，据国家知识产权局公告，大连力德气体科技股份有限公司取得一项名为“一种制氧机富氧稳压分配器“授权公告号CN221034697U,申请日期为2023年6月。专利摘要显示，本实用新型涉及制氧机富氧稳压分配器技术领域，公开了一种制氧机富氧稳压分配器，包括等我继续说。
5月30日，巨灵财经数据显示，华特气体预计6月6日解禁限售股10.80万股，解禁类型为股权激励限售股份，本次解禁占解禁前流通市值比例为0.09%,解禁部分市值为536.44万元。截至前一交易日收盘，华特气体报49.67元/股。本文源自金融界
金融界2024年5月30日消息，据国家知识产权局公告，美盈森集团股份有限公司取得一项名为“一种气体监测装置”，授权公告号CN221038817U,申请日期为2023年9月。专利摘要显示，本实用新型涉及一种气体监测装置，包括：设置有显示屏的基体和外置气敏传感器；基体内设置有数据采集模好了吧！
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金融界5月30日消息，镇江新区自然资源和规划局于2024年5月29日至2024年6月3日挂牌出让一宗国有土地使用权，受让单位为江苏九丰气体有限公司，成交价1490万。据了解，经开区(工)24-3-1地块，位于松林山路以西江苏乾元新材料科技有限公以北。土地面积17911平方米，土地用途为工好了吧！
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金融界2024年5月30日消息，据国家知识产权局公告，湖南一特医疗股份有限公司取得一项名为“一种医用气体快速干燥设备”的专利，授权公告号CN221015293U,申请日期为2023年9月。专利摘要显示，本实用新型公开了一种医用气体快速干燥设备，包括抽气盒、隔膜、推拉杆、往复结构等会说。
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南方财经5月30日电，有投资者问，请问公司在光刻胶和光刻机方面有哪些技术和产品？国林科技在互动平台表示，公司电子级超纯臭氧气体发生器可产生高浓度、大流量、高压力的超洁净臭氧，臭氧在电子工业领域可被广泛用于形成CVD和ALD薄膜、氧化物生长、光刻胶去除和多种清洁应是什么。
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