摘要：
金融界2024年6月8日消息，天眼查知识产权信息显示，宁波震裕科技股份有限公司取得一项名为“电池顶盖片毛刺去除流水线设备“授权公告号CN221088564U,申请日期为2023年11月。专利摘要显示，本实用新型所公开的电池顶盖片毛刺去除流水线设备，包括清洗篮、第二转运装置、以好了吧！
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金融界2024年6月8日消息，天眼查知识产权信息显示，宁波震裕科技股份有限公司取得一项名为“电池顶盖片毛刺去除流水线设备“授权公告号CN221088564U,申请日期为2023年11月。专利摘要显示，本实用新型所公开的电池顶盖片毛刺去除流水线设备，包括清洗篮、第二转运装置、以好了吧！
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证券之星消息，根据企查查数据显示上海新阳(300236)新获得一项发明专利授权，专利名为“抗反射涂层清洗及刻蚀后残留物去除组合物、制备方法及用途”，专利申请号为CN202010210656.1,授权日为2024年6月7日。专利摘要：本发明公开了一种抗反射涂层清洗及刻蚀后残留物去除组合后面会介绍。
zheng quan zhi xing xiao xi ， gen ju qi zha zha shu ju xian shi shang hai xin yang ( 3 0 0 2 3 6 ) xin huo de yi xiang fa ming zhuan li shou quan ， zhuan li ming wei “ kang fan she tu ceng qing xi ji ke shi hou can liu wu qu chu zu he wu 、 zhi bei fang fa ji yong tu ” ， zhuan li shen qing hao wei C N 2 0 2 0 1 0 2 1 0 6 5 6 . 1 , shou quan ri wei 2 0 2 4 nian 6 yue 7 ri 。 zhuan li zhai yao ： ben fa ming gong kai le yi zhong kang fan she tu ceng qing xi ji ke shi hou can liu wu qu chu zu he hou mian hui jie shao 。
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金融界2024年6月7日消息，天眼查知识产权信息显示，新疆中泰化学托克逊能化有限公司连同新疆中泰化学股份有限公司申请一项名为“一种乙炔气杂质去除装置“的专利，公开号CN202410235249.4,申请日期为2024年3月。专利摘要显示，本发明公开了一种乙炔气杂质去除装置，涉及乙炔等我继续说。
金融界2024年6月7日消息，天眼查知识产权信息显示，宁德新能源科技有限公司申请一项名为“极片涂层去除装置、方法及极片、电池、电池包和用电设备“公开号CN202410316054.2,申请日期为2024年3月。专利摘要显示，本申请公开一种极片涂层去除装置、方法及极片、电池、电池等我继续说。
金融界2024年6月7日消息，天眼查知识产权信息显示，金宏气体股份有限公司申请一项名为“四甲基硅烷原料中2-氯丙烷的去除方法”，公开号CN202410328578.3,申请日期为2024年3月。专利摘要显示，本发明公开了一种四甲基硅烷原料中2‑氯丙烷的去除方法，包括以下步骤：S11、将汽等我继续说。
金融界2024年6月7日消息，天眼查知识产权信息显示，中国南方航空股份有限公司申请一项名为“一种用于大面积蜂窝结构损伤的去除方法”，公开号CN202410420960.7,申请日期为2024年4月。专利摘要显示，本发明涉及复合材料修复技术领域，公开了一种用于大面积蜂窝结构损伤的去除好了吧！
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我们可以有效地控制甚至消除脚臭问题；同时，如果脚臭问题持续存在，建议咨询医生，以排除可能的健康问题；健康管理的重要性最后，提醒大家，脚臭虽小，却关系到个人的社交和心理健康；通过理智面对和积极管理，我们不仅能提升自我形象，还能享受更加健康舒适的生活；记住，健康管理是每个后面会介绍。
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同时起到辅助螯合剂的作用，所述抗蚀剂有效地保护喷淋头电极的铝或铝合金基材不被清洗剂腐蚀。本发明的喷淋头电极清洗剂能够在不腐蚀铝合金等基材的情况下，有效地去除喷淋头电极气孔内的陶瓷沉积物，同时去除使用过的喷淋头电极表面的颗粒污染物、有机污染物。本文源自金融好了吧！
公开了一种基于离散正交多项式法向平滑的三维数据滤波方法，通过非局部同向相似结构构造的矩阵更具代表性和鲁棒性，通过正交多项式对大型矩阵进行处理则会降低时间成本和计算的复杂度，从而有利于噪声的去除，不仅有助于提升三角网格模型的质量，还能进一步推动计算机辅助工程还有呢？
所述耐腐蚀涂层的表面与等离子体反应形成有污染层；对所述污染层进行表面处理，在所述污染层内掺入掺杂离子以形成牺牲层；清洗所述半导体零部件，去除所述牺牲层，暴露出所述耐腐蚀涂层。本发明提供的半导体零部件的清洗方法，手段温和，处理效率高，可实现污染层的定量去除。本文还有呢？
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